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Photoelectron और सेमीकंडक्टर के लिए 10.22g / Cm3 मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

प्रमाणन
चीन Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. प्रमाणपत्र
चीन Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. प्रमाणपत्र
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Photoelectron और सेमीकंडक्टर के लिए 10.22g / Cm3 मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

10.22g/Cm3 Molybdenum Sputtering Target For Photoelectron And Semiconductor
10.22g/Cm3 Molybdenum Sputtering Target For Photoelectron And Semiconductor

बड़ी छवि :  Photoelectron और सेमीकंडक्टर के लिए 10.22g / Cm3 मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

उत्पाद विवरण:

उत्पत्ति के प्लेस: हेनान, चीन
ब्रांड नाम: Sanhui
प्रमाणन: ISO 9001:2008
मॉडल संख्या: Mo1

भुगतान & नौवहन नियमों:

न्यूनतम आदेश मात्रा: 10 पीसी
मूल्य: USD 50-80 per pc
पैकेजिंग विवरण: प्लाईवुड मामले
प्रसव के समय: 15-20 दिन
भुगतान शर्तें: डी / ए, डी / पी, टी / टी, वेस्टर्न यूनियन
आपूर्ति की क्षमता: प्रति माह 5000 टुकड़े
विस्तृत उत्पाद विवरण
आकार: गोल स्क्वायर ग्रेड: शुद्ध मोलिब्डेनम या एमओ मिश्र धातु
सतह का उपचार: पॉलिश / जमीन सेवाएं: गहरी प्रसंस्करण
आवेदन: वैक्यूम कोटिंग, आयन स्पटरिंग सहनशीलता: + -0.1 मिमी मोटाई
शर्तेँ: निर्वात annealed या संयुक्त राष्ट्र annealed डिलीवरी का समय: 10-25 कार्यदिवस
हाई लाइट:

10.22 जी / सेमी 3 मोलिब्डेनम स्पटरिंग टारगेट

,

फोटोइलेक्ट्रॉन मोलिब्डेनम स्पटरिंग टारगेट

,

सेमीकंडक्टर मोलि स्पटरिंग लक्ष्य

मोलिब्डेनम स्पूटरिंग टारगेट फॉर फ़ोटोज़ेलेट्रॉन और सेमीकंडक्टर

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का परिचय

उत्पाद का नाम पवित्रता घनत्व सतह प्रसंस्करण
मो लक्ष्य 99.95% 10.22 जी / सेमी 3 भूमि रोलिंग

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य के दो प्रकार हैं:मोलिब्डेनम प्लेनर लक्ष्य और मोलिब्डेनम रोटरी लक्ष्य।

मोलिब्डेनम लक्ष्य एक प्रकार की औद्योगिक सामग्री है, जो व्यापक रूप से प्रवाहकीय ग्लास, एसटीएन / टीएन / टीएफटी-एलसीडी, ऑप्टिकल ग्लास, आयन कोटिंग और अन्य उद्योगों में उपयोग की जाती है।यह सभी प्लेनर कोटिंग और रोटरी कोटिंग सिस्टम के लिए उपयुक्त है।

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य के अनुप्रयोग:

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य को वैक्यूम कोटिंग उद्योग, आयन स्पटरिंग, फ्लैट पैनल डिस्प्ले उद्योग और फोटोवोल्टिक उद्योग में लागू किया जा सकता है।मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग पतली-फिल्म सौर सेल इलेक्ट्रोड, वायरिंग सामग्री और अर्धचालक की बाधा परत सामग्री के रूप में किया जा सकता है।

 

मोलिब्डेनम, उच्च गलनांक, उच्च चालकता, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध और अन्य विशेषताओं के साथ, और इसका विशिष्ट प्रतिबाधा और झिल्ली तनाव क्रोमियम का केवल आधा है।इसके अलावा, मोलिब्डेनम एक पर्यावरण के अनुकूल सामग्री है, इसलिए पर्यावरण प्रदूषण के बारे में चिंता करने की कोई आवश्यकता नहीं है।इसलिए, मोलिब्डेनम फ्लैट पैनल डिस्प्ले के लिए पसंदीदा स्पटरिंग लक्ष्यों में से एक बन गया है।यह बहुत महत्वपूर्ण है कि, विशेषज्ञों के अनुसार, मोलिब्डेनम एलसीडी की चमक, इसके विपरीत, रंग और अन्य प्रदर्शन में काफी सुधार कर सकता है और इसकी सेवा जीवन का विस्तार कर सकता है।

 

TFT-LCD मोलिब्डेनम लक्ष्य के लिए, हम कॉपर बेस प्लेट के साथ बड़े आकार के मोलिब्डेनम लक्ष्य के लिए वैक्यूम वेल्डिंग की पेशकश कर सकते हैं।

 

मोलिब्डेनम लक्ष्य के लक्षण और विनिर्देश:

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य में मोलिब्डेनम की उत्कृष्ट विशेषताएं हैं, जैसे उच्च पिघलने बिंदु, उच्च विद्युत चालकता, चमकदार सतह, बेहतर संक्षारण प्रतिरोध और बकाया पर्यावरण रक्षणीपर।

शुद्धता (%)

घनत्व (जी / सेमी 3)

विनिर्देशों (मिमी)

> = 99.95

> = 9.9

गोल लक्ष्य आकार: (60-100) दीया * (42-55) चौड़ाई

शीट लक्ष्य आकार: (8-16) मोटाई * (80-200) चौड़ाई * लंबाई

ट्यूब लक्ष्य आकार: (70-90.5) आयुध डिपो * (7-20) मोटाई * लंबाई

 

उत्पाद संग्रह

Photoelectron और सेमीकंडक्टर के लिए 10.22g / Cm3 मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य 0


 

 

सम्पर्क करने का विवरण
Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.

व्यक्ति से संपर्क करें: Lisa Ma

दूरभाष: 86-15036139126

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