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वैक्यूम कोटिंग क्रोमियम स्पटरिंग लक्ष्य

उच्च शुद्धता ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य Zr702 व्यास 140 मिमी / डी 60 मिमी / 57 मिमी

7.19g/cm3 जंग प्रतिरोधी क्रोमियम स्पटरिंग लक्ष्य

$चीन Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. प्रमाणपत्र$

झेंग्झौ Sanhui उत्कृष्ट गुणवत्ता और गर्म सेवा के साथ पेशेवर भागीदार है।

—— जेम्स

हम गुणवत्ता आश्वासन और समय पर डिलीवरी के साथ आपके दीर्घकालिक सहयोग की सराहना करते हैं। और 2020 तक अपनी तरह के समर्थन के लिए धन्यवाद।

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धातु संक्षारण प्रतिरोधी क्रोमियम लक्ष्य

धातु संक्षारण प्रतिरोधी क्रोमियम लक्ष्य

उच्च शुद्धता चमकदार सतह टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य

उच्च शुद्धता 99.99% ITO लक्ष्य In2O3:SnO2 90:10 Wt%

पॉलिश / पीस सतह Niv7 निकल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य

उच्च शुद्धता 99.99% न्यूनतम मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य ग्राउंड

टट्टी टटोलना

(17)

धातु संक्षारण प्रतिरोधी क्रोमियम लक्ष्य
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उच्च शुद्धता चांदी अच्छा संक्षारण प्रतिरोध क्रोमियम लक्ष्य, चांदी स्पटरिंग लक्ष्य क्रोमियम (सीआर) सामान्य जानकारी: क्रोमियम दुनिया में सबसे लोकप्रिय धातुओं में से एक है।क्रोमियम एक चांदी, चमकदार, कठोर और भंगुर ... और अधिक पढ़ें

2022-08-17 15:47:32

उच्च शुद्धता चमकदार सतह टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य
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99.99% उच्च शुद्धता व्यास 25-400 टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य 1. उत्पाद का नामटैंटलम लक्ष्य 2. पुरीअल्पसंख्यक 99.9~99.99% 3. मानकएएसटीएम बी708 4. मोटाई0.8 मिमी - 30 मिमी 5. आवेदनकई हीटिंग तत्व आवेदन के लिए प्रयुक्त 6... और अधिक पढ़ें

2022-08-05 14:47:50

उच्च शुद्धता 99.99% ITO लक्ष्य In2O3:SnO2 90:10 Wt%
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उच्च शुद्धता 99.99% ITO लक्ष्य In2O3:SnO2=90:10 wt% आवेदन आवेदन के संदर्भ में, आईटीओ पारदर्शी प्रवाहकीय फिल्म ग्लास मुख्य रूप से एलसीडी क्षेत्र, औद्योगिक क्षेत्र, परिवहन और अन्य क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है... और अधिक पढ़ें

2022-08-03 16:35:16

पॉलिश / पीस सतह Niv7 निकल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य
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अनुकूलित पॉलिश या पीसने की सतह उच्च शुद्धता 99.95 NiV7 निकल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य: निकल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य का निर्देश: निकल वैनेडियम (NiV7wt%) स्पटरिंग लक्ष्य उपलब्ध शुद्धता: 99.9% 99.95% आयाम: आपके अन... और अधिक पढ़ें

2022-07-25 15:23:56

उच्च शुद्धता 99.99% न्यूनतम मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य ग्राउंड
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99.99% न्यूनतम मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य ग्राउंड सामग्री: मैग्नीशियम / मिलीग्राम उपलब्ध शुद्धता: 99.9%, 99.95%, 99.99% आकार: अनुकूलित आवेदन: पीवीडी कोटिंग प्रोडक्ट का नाम पवित्रता घनत्व सतह प्रसंस्करण एमजी लक्... और अधिक पढ़ें

2022-07-14 14:41:03

वैक्यूम चुंबकीय नियंत्रण पीवीडी कोटिंग के लिए क्रोम एल्यूमिनियम मिश्र धातु अलसीआर स्पटरिंग लक्ष्य
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वैक्यूम चुंबकीय नियंत्रण पीवीडी कोटिंग के लिए एल्यूमीनियम-क्रोम्युन मिश्र धातु अलसीआर स्पटरिंग लक्ष्य एल्युमिनियम-क्रोमियम (AlCr) लक्ष्य सुपरहार्ड नाइट्राइड कोटिंग्स बनाने के लिए प्रतिक्रियाशील जमाव के दौरान ना... और अधिक पढ़ें

2022-06-17 18:32:07

ज़िरकोनियम Zr702 उच्च शुद्धता धातु स्पार्किंग लक्ष्य
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ज़िरकोनियम Zr702 उच्च शुद्धता धातु स्पटरिंग लक्ष्य ज़िरकोनियम ऑक्सीजन के लिए एक महान आत्मीयता के साथ एक सक्रिय धातु है, और ऑक्साइड फिल्म का उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध यह निर्धारित करता है कि यह कई संक्षारक वाता... और अधिक पढ़ें

2022-04-15 16:06:53

99.95%-99.99% RO5200 टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता उज्ज्वल सतह
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99.95%-99.99% उच्च शुद्धता उज्ज्वल सतह टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य 1. उत्पाद का नाम टैंटलम लक्ष्य 2. शुद्धता 99.95~99.99% 3. मानक एएसटीएम बी708 4. मोटाई 0.8 मिमी - 30 मिमी 5. आवेदन कई हीटिंग तत्वों के लिए प्रयुक्त 6... और अधिक पढ़ें

2022-04-07 11:18:39

पीवीडी कोटिंग के लिए 99.99% एल्यूमीनियम वैक्यूम मैग्नेट्रॉन स्पैटरिंग लक्ष्य
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पीवीडी कोटिंग के लिए प्रयुक्त 99.99% एल्यूमिनियम वैक्यूम मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग परिचय: उत्पाद सामग्री 99.99% अल विशेष विवरण गोल, आयताकार।विशेष के आकार प्रक्रिया पिंड-यांत्रिक प्रसंस्करण में वैक्यूम चुंबकीय उत्तोल... और अधिक पढ़ें

2022-01-05 14:14:04

6.51g/cm3 धातु कोटिंग सामग्री ज़िरकोनियम 99.9% स्पटरिंग लक्ष्य
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स्पटरिंग लक्ष्य धातु स्पटरिंग लक्ष्य 99.9% उच्च शुद्धता कोटिंग सामग्री ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य स्पटरिंग लक्ष्य: मोटाई: 0.04 से 1.40" (1.0 से 35 मिमी)। 20" (50 से 500 मिमी) तक की चौड़ाई। लंबाई: 3.9 "से 6.56 फ... और अधिक पढ़ें

2021-12-29 11:40:19

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