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वैक्यूम कोटिंग के लिए 3N5 99.95% मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

प्रमाणन
चीन Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. प्रमाणपत्र
चीन Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. प्रमाणपत्र
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वैक्यूम कोटिंग के लिए 3N5 99.95% मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

3N5 99.95% Molybdenum Sputtering Target For Vacuum Coating
3N5 99.95% Molybdenum Sputtering Target For Vacuum Coating

बड़ी छवि :  वैक्यूम कोटिंग के लिए 3N5 99.95% मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

उत्पाद विवरण:
उत्पत्ति के प्लेस: हेनान, चीन
ब्रांड नाम: Sanhui
प्रमाणन: ISO 9001:2008
मॉडल संख्या: Mo1
भुगतान & नौवहन नियमों:
न्यूनतम आदेश मात्रा: 10 पीसी
मूल्य: USD 50-80 per pc
पैकेजिंग विवरण: प्लाईवुड मामले
प्रसव के समय: 15-20 दिन
भुगतान शर्तें: डी / ए, डी / पी, टी / टी, वेस्टर्न यूनियन
आपूर्ति की क्षमता: प्रति माह 5000 टुकड़े
विस्तृत उत्पाद विवरण
आकार: गोल, आयताकार ग्रेड: शुद्ध मोलिब्डेनम या एमओ मिश्र धातु
सतह का उपचार: पॉलिश / जमीन सेवाएं: गहरी प्रसंस्करण
आवेदन: वैक्यूम कोटिंग, आयन स्पटरिंग सहनशीलता: + -0.1 मिमी मोटाई
शर्तेँ: निर्वात annealed या संयुक्त राष्ट्र annealed डिलीवरी का समय: 10-25 कार्यदिवस
हाई लाइट:

99.95% मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

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3N5 मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

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वैक्यूम कोटिंग के लिए मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

वैक्यूम कोटिंग के लिए 3N5 99.95% मोलिब्डेनम प्लेट स्पटरिंग लक्ष्य

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का परिचय

उत्पाद का नाम पवित्रता घनत्व सतह प्रसंस्करण
मो लक्ष्य 99.95% 10.22 ग्राम/सेमी3 भूमि रोलिंग

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य दो प्रकार के होते हैं:मोलिब्डेनम प्लानर लक्ष्य और मोलिब्डेनम रोटरी लक्ष्य।

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य एक प्रकार की औद्योगिक सामग्री है, जिसका व्यापक रूप से प्रवाहकीय ग्लास, एसटीएन / टीएन / टीएफटी-एलसीडी, ऑप्टिकल ग्लास, आयन कोटिंग और अन्य उद्योगों में उपयोग किया जाता है।यह सभी तलीय कोटिंग और रोटरी कोटिंग सिस्टम के लिए उपयुक्त है।

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य में उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व और महीन अनाज की विशेषताएं होती हैं, ताकि स्पटरिंग दक्षता, समान फिल्म मोटाई और चिकनी नक़्क़ाशी सतह स्पटरिंग में प्राप्त हो।

 

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य के अनुप्रयोग:

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य को वैक्यूम कोटिंग उद्योग, आयन स्पटरिंग, फ्लैट पैनल डिस्प्ले उद्योग और फोटोवोल्टिक उद्योग में लागू किया जा सकता है।मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग पतली फिल्म सौर सेल इलेक्ट्रोड, वायरिंग सामग्री और अर्धचालक की बाधा परत सामग्री के रूप में किया जा सकता है।

 

इसलिए, मोलिब्डेनम फ्लैट पैनल डिस्प्ले के लिए पसंदीदा स्पटरिंग लक्ष्यों में से एक बन गया है।यह बहुत महत्वपूर्ण है कि, विशेषज्ञों के अनुसार, मोलिब्डेनम भी एलसीडी की चमक, कंट्रास्ट, रंग और अन्य प्रदर्शन में काफी सुधार कर सकता है और इसकी सेवा जीवन का विस्तार कर सकता है।

 

टीएफटी-एलसीडी मोलिब्डेनम लक्ष्य के लिए, हम कॉपर बेस प्लेट के साथ बड़े आकार के मोलिब्डेनम लक्ष्य के लिए वैक्यूम वेल्डिंग की पेशकश कर सकते हैं।

 

मोलिब्डेनम लक्ष्य के लक्षण और विनिर्देश:

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य में मोलिब्डेनम की उत्कृष्ट विशेषताएं हैं, जैसे उच्च गलनांक, उच्च विद्युत चालकता, चमकदार सतह, बेहतर संक्षारण प्रतिरोध और उत्कृष्ट पर्यावरण सुरक्षापर।

शुद्धता (%)

घनत्व (जी/सेमी3)

निर्दिष्टीकरण (मिमी)

>= 99.95

>=9.9

गोल लक्ष्य आकार: (60-100) दीया *(42-55) चौड़ाई

शीट लक्ष्य आकार: (8-16) मोटाई * (80-200) चौड़ाई * लंबाई

ट्यूब लक्ष्य आकार: (70-90.5) आयुध डिपो * (7-20) मोटाई * लंबाई

 

उत्पाद संग्रह

वैक्यूम कोटिंग के लिए 3N5 99.95% मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य 0


 

 

सम्पर्क करने का विवरण
Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.

व्यक्ति से संपर्क करें: Lisa Ma

दूरभाष: 86-15036139126

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